Esforço para tornar indústria de semicondutores mais amistosa ao meio ambiente pode resultar em sérias mudanças climáticas.
As emissões de um gás do efeito estufa, com capacidade 17 mil vezes superior ao dióxido de carbono em aquecer o planeta, estão pelo menos quatro vezes mais elevadas que o estimado. O trifluoreto de nitrogênio (NF3) é usado principalmente pela indústria de semicondutores para limpar as câmaras em que se são produzidos os chips de silício. No passado, a indústria estimava que a maior parte do gás era utilizada durante o processo de limpeza e somente cerca de 2% escapavam para o ar. Mas as primeiras medidas feitas dos níveis de NF3 na atmosfera, publicadas recentemente no Geophysical Research Letters, mostram que as emissões chegam a 16%.
Esses resultados podem não ter repercussões imediatas ─ atualmente, o NF3 contribui com 0,04% para o efeito do aquecimento global gerado pelo dióxido de carbono emitido por fontes como termelétricas à base de carvão e veículos.
Entretanto, à medida que aparelhos de TVs LCD se tornam mais comuns em todo o mundo e a emergente indústria de células solares fotovoltaicas se desenvolve, quantidade cada vez maiores desse gás são geradas, pois o NF3 é utilizado na limpeza dos dois produtos. A produção praticamente dobra a cada ano, observa Michael Prather, químico atmosférico da University of California, em Irvine, que previu, no começo deste ano, que as emissões provavelmente ultrapassariam a quantidade estimada pela indústria, de que somente 2% do gás são liberados para a atmosfera.
Apesar dos efeitos potenciais o gás não é controlado e não se exige das empresas de eletrônicos a manutenção de um histórico da quantidade utilizada ou emitida. “Ninguém realmente sabe quanto NF3 é utilizado, e não sabemos que quantidade está sendo produzida, nem se a taxa de emissão está correta,” argumenta Ray Weiss, geoquímico do Instituto Scripps de Oceanografia, da University of California, em San Diego, que conduz o novo trabalho.
As emissões de um gás do efeito estufa, com capacidade 17 mil vezes superior ao dióxido de carbono em aquecer o planeta, estão pelo menos quatro vezes mais elevadas que o estimado. O trifluoreto de nitrogênio (NF3) é usado principalmente pela indústria de semicondutores para limpar as câmaras em que se são produzidos os chips de silício. No passado, a indústria estimava que a maior parte do gás era utilizada durante o processo de limpeza e somente cerca de 2% escapavam para o ar. Mas as primeiras medidas feitas dos níveis de NF3 na atmosfera, publicadas recentemente no Geophysical Research Letters, mostram que as emissões chegam a 16%.
Esses resultados podem não ter repercussões imediatas ─ atualmente, o NF3 contribui com 0,04% para o efeito do aquecimento global gerado pelo dióxido de carbono emitido por fontes como termelétricas à base de carvão e veículos.
Entretanto, à medida que aparelhos de TVs LCD se tornam mais comuns em todo o mundo e a emergente indústria de células solares fotovoltaicas se desenvolve, quantidade cada vez maiores desse gás são geradas, pois o NF3 é utilizado na limpeza dos dois produtos. A produção praticamente dobra a cada ano, observa Michael Prather, químico atmosférico da University of California, em Irvine, que previu, no começo deste ano, que as emissões provavelmente ultrapassariam a quantidade estimada pela indústria, de que somente 2% do gás são liberados para a atmosfera.
Apesar dos efeitos potenciais o gás não é controlado e não se exige das empresas de eletrônicos a manutenção de um histórico da quantidade utilizada ou emitida. “Ninguém realmente sabe quanto NF3 é utilizado, e não sabemos que quantidade está sendo produzida, nem se a taxa de emissão está correta,” argumenta Ray Weiss, geoquímico do Instituto Scripps de Oceanografia, da University of California, em San Diego, que conduz o novo trabalho.
